半导体芯片制造集成电路光刻技术 成像基础理论 林本坚 原著第二版 驱动光学光刻基本方程参数 现货 光刻技术 光刻系统组件书
半导体芯片制造集成电路光刻技术 成像基础理论 林本坚 原著第二版 驱动光学光刻基本方程参数 现货 光刻技术 光刻系统组件书
所属类目:书籍/杂志/报纸 >> 电子电路
折后价    ¥90.2 原价  ¥198.00
掌柜 化学工业出版社旗舰店
所 在 地:北京 已有0人购买
如果您喜欢此宝贝,记得分享给您的朋友,一起享优惠:
商品详情 相关说明

  • 特色优选为您提供商品半导体芯片制造集成电路光刻技术 成像基础理论 林本坚 原著第二版 驱动光学光刻基本方程参数 现货 光刻技术 光刻系统组件书的详细介绍,
    折后价格90.2元,已有0人购买,选自掌柜化学工业出版社旗舰店,
    特色优选为您提供淘宝网网上热销商品,让您更快找到热门以及合适自己的商品,
    特别提供商品的详细参数、介绍以及报价等信息,挑选商品更方便。